高純水是將普通的市政用水處理成對不同離子的含量和顆粒度都有很高要求的超純水。在半導體制作過程中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸，80%以上的工序需要進行化學處理，而化學處理又與超純水有關。如果水中的雜質(zhì)進入硅片，就會導致半導體器件性能，從而影響產(chǎn)品質(zhì)量。因此，制備和使用高品質(zhì)的超純水已成為發(fā)展大規(guī)模集成電路的重要前提技術。
眾所周知，超純水管道系統(tǒng)在使用過程中，由于離子的聚集和雜質(zhì)的粘著會對管道造成污染，從而影響硅片的質(zhì)量。因此，半導體企業(yè)需要定期對超純水管道進行清洗和消毒，以使水質(zhì)達到工藝使用要求。但由于半導體企業(yè)生產(chǎn)任務緊以及專業(yè)方向的差異，企業(yè)自身很難投入精力進行超純水管道的清洗和維護工作。目前各企業(yè)普遍采用“技術外包”的方式對超純水管道進行清洗和保養(yǎng)處理。
基于上述現(xiàn)狀，陜西博泰達技術人員經(jīng)過相關半導體生產(chǎn)企業(yè)和水質(zhì)處理企業(yè)的現(xiàn)狀的現(xiàn)場實踐合同行業(yè)的經(jīng)驗，研究出一套專業(yè)針對半導體企業(yè)用超純水管道清洗方案。
一、 成果的主要內(nèi)容
采用化學清洗法對半導體企業(yè)用超純水管道進行處理，使其達到工業(yè)生產(chǎn)需求。
（1）水力清洗
用大量的水盡可能沖掉系統(tǒng)中的灰塵、泥沙。為了達到好的沖洗效果，需注意沖洗方式和水速的控制；
（2）藥液循環(huán)清洗
選擇合適的化學藥液清洗純水管道，其目的是殺死管道內(nèi)附著的微生物及生物粘泥；
（3）水力循環(huán)沖洗
用反滲透處理水反復沖洗超純水管道，其目的是沖洗掉管內(nèi)殘留的化學藥液；
（4）采樣檢查
水力循環(huán)沖洗后采集水樣，用化學分析方法檢測水中是否含有殘留藥液及水質(zhì)是否達標；
（5）復位檢查
采樣檢查符合水質(zhì)要求后，即可將系統(tǒng)復位至正常狀態(tài)，以備交付使用。
“半導體企業(yè)用超純水管道清洗方案”項目不斷的論證、試驗、實施和改進，取得了一定的成效。該項目的實施有利于降低企業(yè)對生產(chǎn)成本的投入和產(chǎn)品的出廠價格，在一定程度上提高了產(chǎn)品的競爭力。
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